亥姆(mu)霍(huo)茲線(xian)圈(quan)的均(jun)勻(yun)區大(da)小(xiao)與線(xian)圈類(lei)型和(he)結構參數密切(qie)相關(guan)。對於圓(yuan)形線(xian)圈(quan),當(dang)兩線圈(quan)間(jian)距等(deng)於(yu)半(ban)徑時,均勻(yun)區呈(cheng)球(qiu)形或(huo)橢(tuo)球(qiu)形,直徑約為線圈(quan)半(ban)徑的1/3-1/2,軸(zhou)向(xiang)延伸範圍約為線圈(quan)間(jian)距(ju)的20%-30%。例如(ru),半(ban)徑為10 cm的線(xian)圈(quan),均(jun)勻區直徑約3-5 cm,軸(zhou)向(xiang)範圍約2-3 cm。方(fang)形線(xian)圈(quan)的(de)均勻區體積更(geng)大(da),通常(chang)為立(li)方(fang)體或長(chang)方(fang)體,邊(bian)長(chang)可達(da)1米至(zhi)數(shu)米,適用(yong)於(yu)大(da)樣品測(ce)試。 擴(kuo)展亥姆(mu)霍(huo)茲線(xian)圈(quan)均勻(yun)區的(de)方(fang)法(fa)包括調整線圈(quan)間距(ju),通過(guo)優(you)化線(xian)圈間距(如稍(shao)大(da)於(yu)或小於(yu)半(ban)徑)可擴(kuo)大(da)均(jun)勻區範圍,但(dan)需(xu)平衡(heng)均勻(yun)度。多組(zu)線圈組(zu)合是另(ling)壹(yi)種方(fang)法(fa),采用三(san)維(wei)正(zheng)交(jiao)排(pai)列(lie)的多組(zu)亥姆(mu)霍(huo)茲線(xian)圈(quan)可形成(cheng)更(geng)大(da)體積的均勻(yun)磁(ci)場(chang)空間。此(ci)外(wai),補(bu)償(chang)線圈(quan)技術通過(guo)添加補(bu)償(chang)線圈(quan)抵(di)消(xiao)非均勻項,也能(neng)進(jin)壹步(bu)擴(kuo)展均勻區。 亥姆(mu)霍(huo)茲線(xian)圈(quan)的磁(ci)場(chang)特(te)性(xing)表現為高均勻性,兩(liang)線(xian)圈(quan)磁(ci)場(chang)疊(die)加後,中心(xin)區域磁(ci)場(chang)均(jun)勻(yun)度較(jiao)高,相對偏差(cha)壹(yi)般小於(yu)1%-5%。其(qi)磁(ci)場(chang)方(fang)向(xiang)始終與線(xian)圈平面垂直且穩(wen)定(ding),磁(ci)場(chang)強度與電流大(da)小(xiao)成正比,可靈(ling)活(huo)調節(jie)。
亥姆(mu)霍(huo)茲線(xian)圈(quan)的均(jun)勻(yun)區大(da)小(xiao)與線(xian)圈類(lei)型和(he)結構參數密切(qie)相關(guan)。對於圓(yuan)形線(xian)圈(quan),當(dang)兩線圈(quan)間(jian)距等(deng)於(yu)半(ban)徑時,均勻(yun)區呈(cheng)球(qiu)形或(huo)橢(tuo)球(qiu)形,直徑約為線圈(quan)半(ban)徑的1/3-1/2,軸(zhou)向(xiang)延伸範圍約為線圈(quan)間(jian)距(ju)的20%-30%。例如(ru),半(ban)徑為10 cm的線(xian)圈(quan),均(jun)勻區直徑約3-5 cm,軸(zhou)向(xiang)範圍約2-3 cm。方(fang)形線(xian)圈(quan)的(de)均勻區體積更(geng)大(da),通常(chang)為立(li)方(fang)體或長(chang)方(fang)體,邊(bian)長(chang)可達(da)1米至(zhi)數(shu)米,適用(yong)於(yu)大(da)樣品測(ce)試。
擴(kuo)展亥姆(mu)霍(huo)茲線(xian)圈(quan)均勻(yun)區的(de)方(fang)法(fa)包括調整線圈(quan)間距(ju),通過(guo)優(you)化線(xian)圈間距(如稍(shao)大(da)於(yu)或小於(yu)半(ban)徑)可擴(kuo)大(da)均(jun)勻區範圍,但(dan)需(xu)平衡(heng)均勻(yun)度。多組(zu)線圈組(zu)合是另(ling)壹(yi)種方(fang)法(fa),采用三(san)維(wei)正(zheng)交(jiao)排(pai)列(lie)的多組(zu)亥姆(mu)霍(huo)茲線(xian)圈(quan)可形成(cheng)更(geng)大(da)體積的均勻(yun)磁(ci)場(chang)空間。此(ci)外(wai),補(bu)償(chang)線圈(quan)技術通過(guo)添加補(bu)償(chang)線圈(quan)抵(di)消(xiao)非均勻項,也能(neng)進(jin)壹步(bu)擴(kuo)展均勻區。
亥姆(mu)霍(huo)茲線(xian)圈(quan)的磁(ci)場(chang)特(te)性(xing)表現為高均勻性,兩(liang)線(xian)圈(quan)磁(ci)場(chang)疊(die)加後,中心(xin)區域磁(ci)場(chang)均(jun)勻(yun)度較(jiao)高,相對偏差(cha)壹(yi)般小於(yu)1%-5%。其(qi)磁(ci)場(chang)方(fang)向(xiang)始終與線(xian)圈平面垂直且穩(wen)定(ding),磁(ci)場(chang)強度與電流大(da)小(xiao)成正比,可靈(ling)活(huo)調節(jie)。
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